真空鍍膜機是用于在真空條件下進行薄膜沉積的設備，其結構形式多種多樣，以適應不同的作業場景和基片類型。以下是真空鍍膜機的幾種常見結構形式：

       立式真空鍍膜機是一種常見的結構形式，它由鍍膜室、真空泵系統、控制系統等部分組成。鍍膜室通常為圓柱形或方形，內部裝有加熱裝置和冷卻系統，以控制鍍膜過程中的溫度。它適用于在平面基片上進行薄膜沉積，如光學鏡片、半導體晶圓等。

       臥式真空鍍膜機是另一種常見的結構形式，它與立式真空鍍膜機的主要區別在于鍍膜室的形狀和布局。它的鍍膜室通常為長方體形狀，內部裝有多個蒸發源和靶材，可以實現多層層疊鍍膜。它適用于在大面積基片上進行薄膜沉積，如太陽能電池板、平板顯示器等。

       連續式真空鍍膜機是一種自動化程度較高的真空鍍膜設備，它可以在連續生產線上進行薄膜沉積。它通常由多個鍍膜室、輸送系統、控制系統等部分組成，可以實現高效、穩定的薄膜沉積。它適用于大規模生產中的薄膜沉積，如塑料薄膜、金屬箔等。

       除了以上幾種常見的結構形式外，還有一些特殊結構的真空鍍膜機，如旋轉式、折疊式等。這些真空鍍膜機具有特定的結構和功能，適用于特定的作業場景和基片類型。